EUV 펠리클 삼성전자 도입시 관련주 에스앤에스텍

안녕하세요 벨카입니다. 삼성전자가 연내에 극자외선(EUV) 노광 공정에 '펠리클'을 투입할 전망으로 보고 있습니다. 이와 관련한 포스팅을 하도록 하겠습니다.

EUV 펠리클

펠리클이란?

펠리클은 노광공정 중 발생할 수 있는 마스크(반도체 회로가 그려진 판) 오염을 방지하는 부품입니다. 웨이퍼에 찍을 회로가 그려진 포토마스크의 덮개 역할을 합니다.

EUV 펠리클

EUV 펠리클은 이물질을 차단하고 포토마스크를 좀 더 오래 쓸 수 있도록 돕는 역할을 합니다. EUV용 포토마스크는 수억원을 호가하기 때문에 펠리클을 적용하면 절감을 할 수 있지만 공정이 오래 걸린다는 단점이 있습니다. 

EUA 펠리클 삼성전자 도입

삼성전자 화성 EUV라인

삼성전자는 82% 투과율의 펠리클 기술을 확보했으며, 2022년까지 투과율 88% 제품 양산 체계를 갖추겠다고 밝힌 바가 있습니다. 실제로 삼성전자는 88% 펠리클을 자체 기술로 개발하는데 성공을 했으며, 대량 생산이 가능한 수준의 기술을 확보했다고 전해졌습니다.

삼성전자가 EUV 펠리클 개발에 뛰어든 이유는?

현재 EUV 펠리클 시장은 EUV 노광장비를 독점 공급하는 네덜란드 ASML과 일본 미쓰이화학이 선점을 하고 있습니다. 외산 제품 의존도가 높아지고, EUV 수요가 늘면서 공급만 안정화를 위해서 선제 투자를 한 것으로 알려져 있습니다. 

실제로 TSMC도 EUV용 펠리클 확보를 위해서 자체 제품을 개발하고 있는것으로 알려져 있습니다. TSMC는 약 90~100대 수준의 노광장비를 보유했으며, 삼성전자는 40~50대 수준정도여서 삼성전자의 선점이 중요한 것으로 보입니다. 

 

EUV 펠리클 관련주는?

삼성전자는 에스앤에스텍과 에프에스티에 투자해 EUV 펠리클 개발을 독려중입니다.

에스앤에스텍 사업보고서

에스앤에스텍 사업보고서 연구개발활동에 따르면 연구과제인 EUV 펠리클 사업화를 위한 차세대 박막 공정 기술개발을 수행을 완료한 것으로 나와있습니다.

에스앤에스텍

에스앤에스텍은 반도체 및 평판디스플레이(FPD, Flat Panel Display) 제조공정에 사용되어지는 블랭크마스크 제조 및 판매를 주된 사업 활동으로 영위하고 있습니다. 

블랭마스크

블랭크 마스크는 포토마스크의 원재료로 패턴을 형상화하기 전의 마스크를 의미하며, 일반적으로 메모리 및 시스템 LSI 등 반도체 소자 제조를 위한 반도체용 블랭크 마스크와 디스플레이 패널(LCD 및 OLED) 제조를 위한 FPD(Flat Panel Display)용 블랭크 마스크로 구분할 수 있습니다.

 

반도체용 블랭크 마스크의 구조는 6 x 6 inch인 석영기판 위에 수십에서 수백나노의 두께를 가지는 금속 차광막과 반사방지막이 증착된 후 그 위에 감광액이 도포된 구조를 가집니다. 이러한 반도체용 블랭크 마스크를 이용하여 노광, 현상 및 검사와 같은 일련의 공정을 통해 포토마스크를 제조한 후 반도체 공정에 투입되어 대량의 반도체 소자를 생산하게 됩니다.

 

FPD용 블랭크 마스크를 통해 제작된 포토마스크를 이용하여 TV, 모니터, 스마트폰과 같은 다양한 크기의 디스플레이용 패널의 제작이 가능하게 됩니다. 반도체 및 디스플레이 공정의 미세화, 고도화 추세에 따라 고품질의 반도체 소자 및 디스플레이 패널 제조를 위해 원천재료인 블랭크 마스크의 중요성이 더욱 부각되고 있는 상황입니다. 

삼성전자가 주주인 에스앤에스텍

삼성전자가 8%의 지분을 가지고 있기 때문에 삼성전자와 밀접한 관련이 있는 회사입니다.

에스앤에스텍은 꾸준하게 매출액과 영업이익이 증가하고 있으며, 2022년도는 비메모리와 OLED 시장의 수요 확대로 매출증가에 따른 수익성이 증대했습니다.

 

에스앤에스텍 차트

에스앤에스텍의 일봉차트를 보면 바닥권에서 저점을 높이면서 상승파동을 만들어 나가는 모습입니다. 이슈가 부각되고 관심을 받게 된다면 전고점까지는 상승할 여력이 있어 보입니다.